集成电路布图设计专有权保护期限
2013-05-16 09:58:36
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集成电路布图设计专有权的内容包括全部或部分复制布图设计具有独创性的部分;将受保护的布图设计以及含有该布图设计的集成电路和含有该集成电路的物品投入商业利用。
布图设计专有权的保护期限为10年;自登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准;布图设计自创作之日起15年(无论是否申请登记或商业利用)后，不再受本条例保护;生效日即为布图设计申请日。
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1、发明专利权的期限为二十年，实用新型专利权的期限为十年，外观设计专利权的期限为十五年，均自申请日起计算。
2、法律依据：《中华人民共和国专利法》
第四十二条 发明专利权的期限为二十年，实用新型专利权的期限为十年，外观设计专利权的期限为十五年，均自申请日起计算。
自发明专利申请日起满四年，且自实质审查请求之日起满三年后授予发明专利权的，国务院专利行政部门应专利权人的请求，就发明专利在授权过程中的不合理延迟给予专利权期限补偿，但由申请人引起的不合理延迟除外。
为补偿新药上市审评审批占用的时间，对在中国获得上市许可的新药相关发明专利，国务院专利行政部门应专利权人的请求给予专利权期限补偿。补偿期限不超过五年，新药批准上市后总有效专利权期限不超过十四年。
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