集成电路布图设计权的保护对象

　　集成电路布图设计权的保护对象

　　纵观各国的集成电路知识产权保护制度和相关国际条约，将保护范围限定在半导体集成电路范围是国际通例。美国是世界上第一个颁布集成电路保护法律的国家。从美国1984年颁布的半导体芯片保护法可以看出，集成电路布图设计是这类法律保护的直接对象。此后，各国的和相关国际条约均采用了“美国模式”。应当说，这一法律的最基本的目的就是为了防止未经许可随意复制他人的布图设计。

　　尽管世界各国在其立法模式上普遍采用了保护布图设计的美国模式，但对布图设计的称谓却各不相同。世界上最早立法保护集成电路的3个国家中就分别采用了3种不同的叫法：美国人称其为掩模作品(Mask Work);日本人则使用了线路布局(Circuit Layout)的提法;瑞典人使用的是布图设计(Layout Design)。但这并不算结束，随后跟进的欧共体指令却又使用了形貌结构(To-pography，也有译作拓朴图)。在这多个术语中，中国与WIP0的《集成电路条约》保持一致，采用了布图设计的称谓。