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集成电路布图设计保护登记要件

2012-12-18 22:29
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导读:
普通作品在版权法项下,基本上是自动获得保护的,即作品创作完成以后自动而当然的获得保护,并不需要经过任何手续,因此也就不存在任何形式条件的要求。只有美国等少数国家实行登记保护主义,根据美国的规定,作品创作完成后需到国会版权局登记并在作品上标明版权标志

  普通作品在版权法项下,基本上是自动获得保护的,即作品创作完成以后自动而当然的获得保护,并不需要经过任何手续,因此也就不存在任何形式条件的要求。只有美国等少数国家实行登记保护主义,根据美国的规定,作品创作完成后需到国会版权局登记并在作品上标明版权标志方才受版权法的保护。当然,这一形式要件是比较容易满足的,因为根据世界知识产权组织《版权公约》的规定,只要作品上载明版权标志既视为满足了前述形式要件。相对而言,专利法的要求显然严格得多,各国的专利法都一致的规定,取得专利要经过审查登记程序。

  在集成电路布图设计的保护上,除了前面论及需要满足一定的实质条件之外,各国立法基本上都没有对布图设计实行自动保护,而是采取了登记保护主义。开一代风气之先的美国《半导体芯片保护法》率先规定,集成电路的布图设计应当向国会版权局提出申请,由版权局对申请的形式和一部分实质内容进行审查(但不审查独创性),根据不同情况驳回或予以登记。准予登记的,发给登记证书并予以公布。登记证书可以作为布图设计符合法律规定的初步证据,如果未进行登记则不能提起侵权之诉。其他国家的立法受美国的影响,基本都做出了类似的规定。

  除了履行一定的登记手续之外,布图设计获得保护还需要具备的其他形式条件包括:

  (1)该布图设计必须投入商业实施。集成电路作为一种工业产品,只有通过商业实施才能实现其价值,这一要求是合情合理的。当然,如果仅将布图设计视为一种图形作品,无须投入商业实施也能够获得版权法的保护。

  (2)受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中 。这一要求是由布图设计自身的特性所决定的,布图设计并非单纯的版权作品,它必须和具体的集成电路结合起来,无法固化的布图设计本身就是不恰当的,更遑论保护。

  《华盛顿条约》和Trips协议授权各缔约国自行选择要求实施或要求登记作为保护的形式条件。其中,《华盛顿条约》规定,布图设计专有权既可以由该布图设计第一次付诸商业利用产生,也可以由登记产生。Trips协议直接援引了《华盛顿条约》中的条款。中国在制定《集成电路布图设计保护条例》时充分考虑了我国的具体情况和实际需要,在参考世界上多数国家的做法后,并未要求取得布图设计专有权必须先实施,只要求必须登记 。这样的规定完全符合《华盛顿条约》和Trips协议规定的保护水平。而且,还可以把世界范围内已经投入商业利用满两年,而在我国未登记的先进的布图设计排除在保护范围之外;这显然有利于我国集成电路产业的发展。这种立法的处理,切合了中国的实际,同时又满足了国际条约赋予的要求,是中国现行知识产权立法中的一招精妙之举。

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